ASML正在准备全新光刻机，冲击2nm材料制程

对于芯片的产品而言，光刻机优越性才是，而ASML除此以外也在积极布置新的的系统对设计，据外媒美联社，截至 2022 年第一季度，ASML已出货量136个EUV系统对。

按照正式的推测，新的型号的EUV光刻机系统对 NXE:3600D将能远超93%的可用性，这将让其必要性接近DUV光刻机(95%的可用性)。

数据显示，NXE:3600D系统对每不间断可生产160个芯片 (wph)，速度为30mJ/cm，这比 NXE:3400C高18%，而打算开发的 NXE:3800E系统对在此之后将以30mJ/cm的速度缺少要强195wph的生产能力，并在吞吐量升级后远超220wph。

据介绍，NXE:3600E 将在像劣、重叠和吞吐量方面进行渐进式光学小型化，而在0.33 NA的EUV光刻机领域，ASML路线图包含到2025年有数推出吞吐量达为220wph的NXE:4000F。

对于0.55 NA的光刻机，必需更新的的不但是其光刻机系统对。同时还必需在光掩模、光刻胶叠层和花纹转回材料等方面齐头并进，才能让新的设备应用成为也许。

根据ASML 在一季度帐目开会上披露的数据，该公司的目标是在2022年出货量55台EUV系统对，并到2025年发挥作用(最多)90台的方案。ASML同时还承认， 90台也许超过2025年的实际上生产力，不过他们将其描述为为做到2030年1万亿美元半导体从业者生产力所做出的不小努力。

按照之前的推测，ASML打算共同开发新的款光刻机，价值高达4亿美元(达合26亿元人民币)，双层巴士大、重超200吨。A-下半年2023年上半年完工，2025年首次建成，2026年到2030年一线出货量。

这款机器确实指的就是High-NA EXE:5200(0.55NA)，Intel是亚太地区第一个下单的该公司。都是High-NA也就是高数值孔径，2nm之后的路由表都得依赖它发挥作用。