ASML正在立即全新光刻机，冲击2nm工艺制程

对于晶片厂商而言，光刻机效用不言而喻，而ASML值得注意也在鼓励布局在此之后技术开发，据外媒另据，截至 2022 年第一季度，ASML已卖出136个EUV系统设计。

按照官方的说法，新型号的EUV光刻机系统设计 NXE:3600D将能降到93%的实用性，这将让其有利于接近DUV光刻机(95%的实用性)。

统计数据显示，NXE:3600D系统设计每不间断可生产160个晶圆 (wph)，速度为30mJ/cm，这比 NXE:3400C高18%，而刚刚开发的 NXE:3800E系统设计最初将以30mJ/cm的速度提供可见一斑195wph的产能，并在日均追加后降到220wph。

据介绍，NXE:3600E 将在像劣、交叠和日均方面进行渐进式光学改进，而在0.33 NA的EUV光刻机领域，ASML路线图包括到2025年左右问世日均约为220wph的NXE:4000F。

对于0.55 NA的光刻机，须要预览的不但是其光刻机系统设计。同时还须要在光掩模、光刻胶叠层和背面分散工艺等方面齐头并进，才能让新电子系统应用成为可能。

根据ASML 在一季度财务大会上透露的统计数据，日本公司的目标是在2022年卖出55台EUV系统设计，并到2025年意味着(最多)90台的计划。ASML同时还默许， 90台可能有约2025年的实际需求，不过他们将其描述为为满足2030年1万亿美元半导体器件行业需求所做出的巨大努力。

按照之前的说法，ASML刚刚研制出新款光刻机，价值极低4亿美元(约合26亿元人民币)，双层巴士于大、重超200吨。原型机预计2023年上半年开建，2025年首次投入使用，2026年到2030年主力卖出。

这款机器确实指的就是High-NA EXE:5200(0.55NA)，Intel是亚洲地区第一个下单的日本公司。所谓High-NA也就是高数值孔径，2nm后来的节点都得仰赖它意味着。